GB/T 34649-2017 磁控濺射用釕靶 Magnetron sputtering ruthenium target

本標準規定了磁控濺射用釕靶的要求、試驗方法、檢驗規則及標志、包裝、運輸、貯存、質(zhì)量證明書(shū)和訂貨單（或合同）內容。
本標準適用于微電子領(lǐng)域鍍膜用磁控濺射釘靶（以下簡(jiǎn)稱(chēng)釕靶）。GB/T 34649-2017 磁控濺射用釕靶 Magnetron sputtering ruthenium target 2017-09-29發(fā) 布 2018-04-01實(shí) 施 　 　 　 　 　 中 華 人 民 共 和 國 國 家 質(zhì) 量 監 督 檢 驗 檢 疫 總 局 噬 ＋ 肴 ： 擴？ ’‘＼中國國家標準化管理委員會(huì )認！ J 囔 醴 鬻 GB/T 34649-2017 刖 舀 本標準按照GB/T 1.1-2009給出的規則起草 。 本標準由中國有色金屬工業(yè)協(xié)會(huì )提出 。 本 標 準 由 全 國 有 色 金 屬 標 準 化 技 術(shù) 委 員 會(huì ) （ SAC/TC 243） 歸 口 。 本標準負責起草單位：有研億金新材料有限公司 、 有色金屬技術(shù)經(jīng)濟研究院 。 本 標 準 起 草 人 ： 羅 俊 鋒 、 丁 照 崇 、 李 勇 軍 、 向 磊 、 萬(wàn) 小 勇 、 劉 書(shū) 芹 、 熊 曉 東 、 王 莊 、 賀 聽(tīng) 、 滕 海 濤 、 高 巖 。