GB/T 24575-2009硅和外延片表面Na、Al、K和Fe的二次離子質(zhì)譜檢測方法Test method for measuring surface sodium,aluminum,potassium,and iron on silicon and epi substrates by secondary ion mass spectrometry GB/T 24575-2009硅和外延片表面Na、Al、K和Fe的二次離子質(zhì)譜檢測方法Test method for measuring surface sodium,aluminum,potassium,and iron on silicon and epi substrates by secondary ion mass spectrometry

GB/T 24575-2009硅和外延片表面Na、Al、K和Fe的二次離子質(zhì)譜檢測方法Test method for measuring surface sodium,aluminum,potassium,and iron on silicon and epi substrates by secondary ion mass spectrometry

  • 標準類(lèi)別:[GB] 國家標準
  • 標準大?。?/li>
  • 標準編號:GB/T 24575-2009
  • 標準狀態(tài):現行
  • 更新時(shí)間:2022-06-13
  • 下載次數:次
標準簡(jiǎn)介

本標準修改采用SEMIMF1617-0304《二次離子質(zhì)譜法測定硅和硅外延襯底表面上鈉、鋁和鉀》。本標準對SEMIMF1617-0304格式進(jìn)行了相應調整。為了方便比較,在資料性附錄B中列出了本標準章條和SEMIMF1617-0304章條對照一覽表。并對SEMI16170304條款的修改處用垂直單線(xiàn)標識在它們所涉及的條款的頁(yè)邊空白處。本標準與SEMIMF1617-0304相比,主要技術(shù)差異如下:---去掉了目的、關(guān)鍵詞。---將實(shí)際測試得到的單一試驗室的精密度結果代替原標準中的精度和偏差部分,并將原標準中的精度和偏差部分作為資料性附錄A。本標準的附錄A 和附錄B為資料性附錄。本標準由全國半導體設備和材料標準化技術(shù)委員會(huì )提出。本標準由全國半導體設備和材料標準化技術(shù)委員會(huì )材料分技術(shù)委員會(huì )歸口。本標準起草單位:信息產(chǎn)業(yè)部專(zhuān)用材料質(zhì)量監督檢驗中心、中國電子科技集團公司第四十六研究所。本標準主要起草人:何友琴、馬農農、丁麗。

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